在线留言
加入收藏
网站地图
全国服务热线
0769-8887 1162
186 6516 1107
超纯水的水质直接关系到半导体成品率,在半导体生产中，超纯水可用于晶圆漂洗、化学稀释、化学机械研磨、洁净室环境的加湿源等。超纯水的质量直接关系到半导体的成品率，随着半导体元件尺寸的缩小和细度的提高，对超纯水质量的技术要求也在不断提高。
在超纯水生产过程中，只要微粒子、电阻率和TOC与气泡中的某一指标稍有差异，就会使半导体元件生产的合格率下降。
传统的超纯水制备工艺通常采用离子交换树脂制备，但离子交换树脂停止生产需要树脂再生，高能耗也增加了劳动力成本。经过多年的实践，超纯水设备结合膜分离技术，利用反渗透结合EDI装置制备超纯水，出水电阻率可达18.2MΩ.cm(25℃)，满足半导体生产用水的需求。同时，设备还配备了反渗透预脱盐技术，以确保超纯水设备的出水水质。同时，EDI处理装置产生的废水较少，不会污染环境，具有较高的环境效益和经济效益，具有广阔的发展前景。
在超纯水生产过程中，只要微粒子、电阻率和TOC与气泡中的某一指标稍有差异，就会使半导体元件生产的合格率下降。
传统的超纯水制备工艺通常采用离子交换树脂制备，但离子交换树脂停止生产需要树脂再生，高能耗也增加了劳动力成本。经过多年的实践，超纯水设备结合膜分离技术，利用反渗透结合EDI装置制备超纯水，出水电阻率可达18.2MΩ.cm(25℃)，满足半导体生产用水的需求。同时，设备还配备了反渗透预脱盐技术，以确保超纯水设备的出水水质。同时，EDI处理装置产生的废水较少，不会污染环境，具有较高的环境效益和经济效益，具有广阔的发展前景。
超纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守、安装简便、操作方便等优势，出水水质符合电池用水相关标准，为半导体用水保驾护航。随着超纯水设备技术不断完善，开启了各行业生产发展的新局面。许多企业在生产过程中对水质纯度有不同的要求，并得到了广泛的应用，如清洗设备用水、精密产品生产用水、检测用水等。
